聚焦离子束（FocusedIonBeam，FIB）是微纳加工、芯片失效分析、微结构科学研究的核心技术装备之一。随着材料、器件的微尺度化（纳米甚至原子尺度）、高集成化（每平方厘米集成10亿个以上的功能单元）、多功能化（在多种外场条件下工作），越来越多的材料微结构研究、器件研发须使用聚焦离子束。全书共分七章，从聚焦离子束的结构原理出发，紧密结合应用与实践，对聚焦离子束诱导沉积、溅射刻蚀、离子注入、离子束曝光、联合使用模式以及样品的前期处理进行阐述，并配有实际案例进行进一步详解。
第一章 聚焦离子束原理
1.1聚焦离子束的基本结构
1.1.1聚焦离子束的系统的分类
1.1.2离子枪的结构
1.1.3双束设备样品室布局与工作台
1.2离子束与材料的作用及离子束加工基本功能原理
1.2.1离子束与材料的作用
1.2.2聚焦离子束的主要功能
第二章 聚焦离子束诱导沉积
2.1FIB中的电子束与离子束诱导沉积
2.1.1电子束诱导沉积原理和技术特点
2.1.2离子束诱导沉积原理和技术特点
2.1.3离子束与电子束沉积的参数选择
2.2沉积层的电学特性
2.2.1离子束诱导沉积层的电学特性
2.2.2电子束诱导沉积保护层的电学特性
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