《晶体生长基础与技术》系统介绍了人工晶体生长的基础理论和相图技术，在此基础上全面介绍了人工晶体生长主流技术如水溶液法、助熔剂法、水热法、焰熔法、提拉法和坩埚下降法等，详细介绍了上述人工晶体生长技术的基本原理、设备设计与构造、生长工艺以及它们的优缺点等。同时，作者结合自身多年科研工作成果积累，选择性介绍了几种重要的光电子晶体材料的生长技术。
前言
第1章晶体生长理论基础1
1.1引言1
1.2晶体生长技术的分类2
1.2.1气相生长法2
1.2.2液相生长法3
1.2.3固相生长法4
1.3晶体生长的热力学原理4
1.3.1气-固相转变过程5
1.3.2液-固相转变过程6
1.4晶体生长理论构造模型7
1.4.1晶体层生长理论8
1.4.2晶体螺旋生长理论9
1.5溶液法晶体生长理论基础11
1.5.1溶液法晶体生长的基本原理11
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