本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面，在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。本书共分为六章，其中，第1章为绪论，介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第2章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型，以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台，除此之外，还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。第3童介绍了常用的二次电子发射去面调控技术。列举了几种用干抽制二次电子发射的去面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第4章介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第5章简要叙述了电子袭击对材料的影响。第6章讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用，并展开了相关分析。
本书内容基础性，探索性强，涉及了我国航天器大功率二次电子倍增相关基础科学制域的重点问题。本书的出版可为我国重大工程项目的研发、设计，以及多领城学科的发展提供参考。同时，也可以作为相关专业本科生和研究生的参考教材。
第1章绪论
1.1基本概念
1.2应用背景
1.3研究现状
第2章二次电子发射理论模型及测量
2.1二次电子发射数值理论模型
2.2二次电子发射的测量
2.3典型材料二次电子产额测量结果
第3章二次电子发射表面调控技术
3.1表面微结构抑制二次电子发射
3.2表面镀膜调控二次电子发射
第4章介质材料的带电及二次电子动态发射
4.1电子照射介质材料带电特性
4.2介质带电下的二次电子发射动态特性
第5章电子轰击对介质材料的影响
5.1电子辐照带电效应下的微波介电特性
5.2电子轰击对材料表面的影响
第6章二次电子发射的应用
6.1放电效应
6.2显微成像中的二次电子
参考文献
索引
