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二、三维微纳米材料的制备与表征
商品编号:6060186
ISBN:9787118125795
出版社:国防工业出版社
作者: 编者:(西)费尔南多·拉萨尼//(德)安德烈斯·拉萨尼|责编:崔云|译
出版日期:2022-08-01
开本:16
装帧:暂无
中图分类:TB383
页数:10174
册数:1
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本书主要包括:微-纳米材料的制备方法、激光干扰法、快速刻蚀周期阵列图案、典型的激光微加工离子束溅射法、高度有序纳米图案等内容,重点讲述3D打印技术制备出的三维蜂窝状纳米材料的制备过程和评价、微观尺寸下纳米材料的表征技术,详细阐述了有X射线显微层析法、使用高能同步辐射技术的亚微米断层分析法、聚焦离子束(FIB)断层分析法和原子探针分析等优选的表征技术,并列举了相关案例。
   第1章 激光干涉图形化在宏观区域快速制作周期阵列的可行性

1.1 概述

1.2 多光束干涉图案的强度计算

1.3 激光干涉光刻

1.4 直接激光干涉图案

1.4.1 DLIP使用纳秒激光脉冲

1.4.2 DLIP使用飞秒激光脉冲

参考文献




第2章 激光微加工

2.1 概述

2.2 硅的激光微结构

2.2.1 激光辐射与硅的相互作用

2.2.2 单脉冲和冲击孔

2.2.3 硅的切割

2.2.4 硅的掩模投影消融

2.2.5 本节小结

2.3 低温共烧陶瓷和聚合物的激光连接

2.3.1 连接工艺

2.3.2 LTCC传感器实例

2.3.3 本节小结

参考文献




第3章 纳米尺度材料的图形和光学性质

3.1 概述

3.2 结构化技术

3.2.1 纳米压印光刻

3.2.2 激光干涉光刻

3.2.3 纳米球自组装技术

3,3 结构材料的光学特性

3.3.1 光子晶体

3.3.2 表面等离子体

3.4 本章小结

参考文献




第4章 离子束溅射

4.1 概述

4.2 实验条件

4.3 Si上的自组织图案

4.3.1 离子入射角

4.3.2 样本旋转

4,3.3 影响因素

4.3.4 离子能量

4.3.5 同时掺入金属

4.3.6 其他实验参数

4.4 其他材料

4.4.1 锗

4.4.2 Ⅲ-V族化合物

4.4.3 熔融石英

4.4.4 金属

4.5 本章小结

参考文献




第5章 三维开放单元结构

5.1 概述

5.2 有限元建模

5.2.1 方法

5.2.2 线性弹性行为

5.2.3 非线性行为:变形局部化

5.3 多孔结构的制造

5.3.1 基于激光的立体光刻

5.3.2 基于动态掩模的立体光刻

5.3.3 双光子聚合

参考文献

……

第6章 X射线微型断层扫描法

第7章 采用高能同步辐射的亚微米断层扫描

第8章 聚焦离子束层析成像对纳米结构的表征

第9章 原子探针断层扫描: 原子水平的三维成像
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